Filters voor IC productiemachines

P4P BV is gevraagd om mee te werken aan het oplossen van een filtratie vraagstuk voor de EUV lithografie machines. EUV staat voor “extreme ultraviolet lithografie.

Deze machines behoren de laatste ontwikkelingen op het gebied van IC chip productiemachines. Hierbij wil men gebruik maken van het 14-20nm UV belichtingsproces voor het produceren van chips voor mobiele toepassingen. Hiervoor is een laserbron nodig die een UV licht geeft met een golflengte van 13,5nm.

Om een idee te hebben van de nauwkeurigheid kunt u zich voorstellen dat de uitlijning van de belichting gebeurt met een nauwkeurigheid van 2nm, dit komt overeen met de afmeting van 8 Si atomen.

Om een hogere productiecapaciteit te realiseren (het aantal wafers per uur) moeten de lasers met een steeds groter vermogen gebruikt worden. Daarbij komt dan veel energie vrij en moeten veel componenten ook gekoeld worden.

Bij deze koeling mag er geen verstoring door beweging ontstaan van stromingen die trillingen veroorzaken. In dit proces van ontwikkeling is P4P gevraagd een voorstel te doen voor twee soorten filters.

Na gesprekken met een tiental ingenieurs van de klant en een bezoek aan de fabriek zijn de filters gedefinieerd en zijn er proefexemplaren in productie gegeven.

P4P heeft daarna de eerste filters geleverd aan de bouwers van subgroepen van de fabrikant van deze IC productiemachines. De twee filters voldeden aan de extreme eisen met betrekking tot filterfijnheid, toleranties op dimensies en fixatie in het onderdeel.

Ook moest beschadiging door extreem grote g-waarden (>500g) worden voorkomen door middel van een aangepaste fixatie.

Omdat deze machines IC wafers produceren, moeten binnen deze machine alle materialen en componenten vrij zijn van extreem kleine vervuiling. Iedere vervuiling leidt tot het verlies van kwaliteit in het eindproduct en in het slechtste geval tot reclamatie.